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曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的
來源: | 作者:上海雋思半導體設備部 | 發(fā)布時間: 2024-12-17 | 803 次瀏覽 | 分享到:

曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

   光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤”,簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。

  曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學反應能夠充分完成。

  對于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且,PEB溫度不同時,感光劑的擴散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時,消除駐波效應最明顯。

  對于化學放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction),又稱為脫保護反應。

   大量實驗表明,烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時, 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。

烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能

智能型烤膠機

加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于?200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品;

溫度范圍:RT~300°C 

溫度精度:0.1°C;

溫度均勻性:≤±0.5℃;

電動頂針調節(jié)高度: 0~30mm;

加熱臺表面:耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成;

控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級PLC控制,實現(xiàn)在指定時間內自動升降,可以定時取片;

潔凈烘箱

無塵等級:Class100;     

溫度范圍:RT~300/450℃;
溫度均勻度:200℃±3℃;    

溫度波動度:±0.5℃(空載)              

工作尺寸(mm):

450×450×450

500×500×500

600×700×800(可定制)        

可擴展功能:

氧濃度檢測,無塵無氧烘箱

智能聯(lián)網(wǎng)功能,MES等工業(yè)自動化軟件

掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取

自動門控,上位機程控,機械手搬運產品



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